碳化硅 磁选 PLC
2023-02-15T06:02:08+00:00
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碳化硅功率器件技术综述与展望 CSEE
摘要:碳化硅(silicon carbide,SiC)器件作为一种宽禁带半导 体器件,具有耐高压、高温,导通电阻低等优点。近20 年 来,SiC 器件是国内外学术界和企业界的一大研究热点,该 文 我们不断在现有硅器件基础上进行碳化硅产品(包括沟槽技术领域革命性的CoolSiC™ MOSFET)的扩展。如今,英飞凌可提供业界最全面的功率产品组合,从超低压到高压 碳化硅SiC器件英飞凌(Infineon)官网 Infineon Technologies1、半导体和碳化硅长晶炉领先者,绑定头部客户实现快速发展 11、深耕半导体和碳化硅单晶炉,绑定沪硅率先突破大硅片单晶炉 公司是国内从事半导体级和碳化硅晶体生长设备制造和销售的领先企业,率先突破 12 寸半导 晶升股份研究报告:碳化硅和半导体级单晶炉领先者
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碳化硅衬底市场群雄逐鹿 碳化硅衬底制备环节流程
2023年3月28日 碳化硅衬底制备环节主要包括原料合成、碳化硅晶体生长、晶锭加工、晶棒切割、 切割片研磨、研磨片抛光、抛光片清洗等环节 , 其中制备重难点主要是晶体生长和切割研磨抛光环节,是整个衬底生产环节 除此之外,碳化硅基功率器件在开关频率、散热能力、损耗等指标上也远好于硅基器件。碳化硅材料具有更高的饱和电子迁移速度、更高的热导率、更低的导通阻抗。 1、阻抗更低,可以缩小产品体积,提高转换效率;2、 第三代半导体之碳化硅:中国半导体的黄金时代 知乎前有美英法意日五大强国的海军博弈,今有意(法半导体 STMicroelectronics)、英(飞凌科技 Infineon)、德(北卡德罕Wolfspeed)、日(本罗姆 Rohm)和美(安森美 onsemi)在碳化硅市场的蓝海争夺战中完成历史的轮回——这五家供应商对应的CR5占据了2021年碳化硅 英雄的黎明,碳化硅五巨头的野望 知乎
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碳化硅(SiC)火爆!上半年SiC车型销量超120万辆—车规AEC
2023年8月8日 车规级碳化硅 (SIC)模块要做哪些测试验证? AEC—Q101是基于失效机理的离散半导体元件应力测试鉴定,由AEC委员会制定,于1996年发行,并持续更新到2021年的E版本,也是目前沿用的最新标准。 适用于车用离散半导体元件的综合可靠性测试认证标 2023年1月2日 单晶生长环境要求高:单晶生长对温度和压力的要求苛刻,一般而言,碳化硅气相生长温度在 2000℃ ~2500℃之间,而传统硅材仅需 1600℃左右,碳化硅单晶对设备和工艺控制带来了极高的要求,温度和压力控制稍有失误,就会导致产品生长失败; 晶型要 碳化硅 SiC 知乎碳化硅功率模块是碳化硅金氧半场效晶体管和碳化硅二极管的组合, 通常将驱动芯片放置在功率模块以外的驱动板上。为了充分发挥碳化硅金氧半场效晶体管的最优性能, 碳化硅金氧半场效晶体管的驱动芯片也可集成到功率模块内部, 形成智能功率模块[4]。第三代半导体材料碳化硅(SiC)研究进展 知乎
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PVT法碳化硅SIC晶体生长工艺中真空压力控制装置的
图1 PVT法碳化硅单晶生长过程中压力、温度和气体的随时间变化过程 从图1所示的工艺曲线可以看出,晶体生长炉内的压力控制是一个全真空度范围的精密变化过程,整个真空度变化范围横跨低真空和高真空(104Pa~105Pa),特别是在101Pa~105Pa的低真空范围内需要精 2021年11月12日 衬底,是碳化硅在半导体中存在的主要形式。衬底制备,首先将碳化硅粉料在单晶炉中高温升华之后形成碳化硅晶锭,然后对晶锭进行粗加工、切割、研磨、抛光得到碳化硅晶片,也就是衬底。衬底制备是碳化硅功率器件成本较大的部分,约占40%以上。彻底弄懂碳化硅产业及重点企业 知乎2022年8月31日 碳化硅充储电站可节省530万 8月2日,爱尔兰ADSTEC Energy PLC公司已经与Jolt Energy建立了合作伙伴关系,旨在为5000个加油站提供基于碳化硅技术的充电站服务。目前,ADSTEC已经在欧洲安装了大约300兆瓦时的储能系统,同时采用了基于碳化硅技术的电力电子设备。SiC板块订单爆发!国内外的碳化硅项目布局与建设
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晶盛机电研究报告:晶体生长设备龙头,碳化硅培育
晶盛机电成立于 2006 年,是国内晶体生长设备领域 的龙头企业。公司立足晶体生长设备的研发、制造和销售,开拓晶体硅生长设备和加工设 备在光伏和半导体领域的应用,布局蓝宝石、碳化硅新材料产业,围绕“新材料, 图表3 轨道交通中碳化硅功率器件占比预测 来源:casa 4 智能电网 相比其他电力电子装置,电力系统要求更高的电压、更大的功率容量、更高的可靠性,碳化硅器件突破了硅基功率器件在大电压、高功率、高温度方面 碳化硅功率器件之六 知乎碳化硅材料属于第三代半导体,碳化硅产业链分为 衬底材料制备、外延层生长、器件制造 以及下游应用, 衬底属于碳化硅产业链上游 ,制备工艺复杂,生长速度慢,产出良率低,是碳化硅产业链亟待突破的最核心部分,也是国内外厂商重点发力的环节。 根据 SiC 衬底——产业瓶颈亟待突破,国内厂商加速发展
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碳化硅晶圆制造难在哪?做出200mm的凤毛麟角电子
2021年8月3日 做出200mm的凤毛麟角电子工程专辑 碳化硅晶圆制造难在哪? 做出200mm的凤毛麟角 同时期的硅晶圆已经由200mm(8英寸)向300mm(12英寸)进发,但碳化硅晶圆的主流尺寸一直是150mm(6英寸),每片晶圆能制造的芯片数量不大,远不能满足下游需求。 真的这么难 2021年4月28日 今天,我们来聊聊 英国、韩国和中国台湾 的最新碳化硅布局,他们也正在追赶日本和美国,以实现新能源汽车对碳化硅器件的自主可控。 他们分别采取了3种不同的的模式: 英国:“专项扶持”模式,砸下100亿布局碳化硅。 中国台湾:“自立更生”模式,以 “狂砸”260亿!追赶Cree英飞凌,韩国、英国、台湾的 深圳麦格米特电气股份有限公司(股票代码:)是电气自动化领域硬件和软件研发、生产、销售与服务的⼀站式解决方案提供商,以电力电子及自动控制为核心技术,业务涵盖电源产品、工业自动化、新能源轨道交通、智能装备、智能家电电控、精密连接六大板块。深圳麦格米特电气股份有限公司 MEET
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国内第三代半导体厂商(碳化硅) 知乎
2018年11月13日,天岳碳化硅材料项目开工活动在长沙浏阳高新区举行,该项目的落实标志着国内较大的第三代半导体碳化硅材料项目及成套工艺生产线正式开建。 据悉,天岳碳化硅材料项目由山东天岳晶体材料有限公司开发建设,总投资30亿元,项目分两期建设 2021年9月14日 据日媒报道,昭和电工株式会社于2021年9月13日宣布,与ROHM签订了功率半导体用SiC(碳化硅)外延片的多年长期供应合同。 报道指出,本次签订的合同是向制造SiC功率半导体的ROHM供应昭和电工制造的SiC外延片。 此外,昭和电工表示,双方将进一步加强技术合作 抢夺SiC晶圆,罗姆与昭和电工签订多年合约 新浪看点2023年9月22日 高体分铝碳化硅为第三代半导体封装材料,已率先实现电子封装材料的规模产业化,满足半导体芯片集成度沿摩尔定律提高导致芯片发热量急剧升高、使用寿命下降以及电子封装的“轻薄微小”的发展需求。 尤其在航空航天、微波集成电路、功率模块、军用 新型化合物半导体封装材料—铝碳化硅 知乎
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碳化硅衬底设备行业深度报告:新能源需求兴起
2022年3月2日 1 SiC 碳化硅:产业化黄金时代已来;衬底为产业链核心 11 SiC 特点:第三代半导体之星,高压、高功率应用场景下性能优越 半导体材料是制作半导体器件和集成电路的电子材料。 核心分为以下三 第三代半导体,以碳化硅为代表,其具有 禁带宽度 大,击穿电场高, 饱和电子 漂移速度高,导热率大等特点,特别是在1200V的高压环境中,有着明显的优势。 SIC晶体具有与GaN材料高匹配的 晶格常数 和热膨胀系数以及优良的热导率,是 GaN基 的理想衬底材料 我想了解一下碳化硅的生产工艺? 知乎2022年6月13日 如今,碳化硅“上车”已成为新能源汽车产业难以绕开的话题,而这要归功于搭载意法半导体碳化硅器件的特斯拉Model 3的问世,使诸多半导体企业在碳化硅上“卷”了起来。 2021年9月,特斯拉宣布旗舰车 碳化硅“上车”,究竟有多“卷”?腾讯新闻
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科技会议—化合物半导体—2020年碳化硅SiC行业分析
科技TMT产业研究和爱好者 碳化硅特性,在高频高功率与用上有显著效果,功率器件,相同功率密度,比Si小10倍,三代半最重要的功能,高速电子移动特性,切换速率比较快,两个作用,一个可以让整体被动器件大幅缩小,三代半器件整体功率终端器件体积大幅 β碳化硅因其相较α碳化硅拥有更高的比表面积,所以可用于非均相催化剂的负载体。 纯的碳化硅是无色的,工业用碳化硅由于含有铁等杂质而呈现棕色至黑色。晶体上彩虹般的光泽则是因为其表面产生的二氧化硅钝化层所致。碳化硅 维基百科,自由的百科全书铝碳化硅材料市场规模总体概况 2021年全球铝碳化硅材料市场的销售额约为98961百万元,预计到2028年将达到296254百万元。 我们预计20222028年全球的复合年增长率为1814%。 铝碳化硅材料行业较大的增长驱动力来自于航空航天和军工。 随着航空航天和军 铝碳化硅材料行业调查,2021年全球市场的销售额约为
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碳化硅(SiC)产业研究由入门到放弃(一) 转载自
2021年12月4日 纯碳化硅(SiC)是无色透明的晶体,又名莫桑石(Moissanite), 高品质莫桑石的火彩好于钻石。 天然碳化硅非常罕见,仅出现在陨石坑内,常见碳化硅主要通过人工合成得到。 碳化硅又叫金刚砂,具有优良的热力学和电化学性能。 在热力学方面, 2023年5月3日 根据该协议,阶段将侧重于150毫米碳化硅材料的供应,但天科合达也将提供200毫米直径碳化硅材料,助力英飞凌向200毫米直径晶圆的过渡。 英飞凌科技首席采购官Angelique van der Burg女士表示:“为了满足不断增长的碳化硅需求,英飞凌正在大幅提高其马来西亚和奥地利生产基地的产能。英飞凌与中国碳化硅供应商天科合达签订晶圆和晶锭 碳化硅,是一种无机物,化学式为SiC,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生产绿色碳化硅时需要加食盐)等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物,莫桑石。在C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中,碳化硅为应用最广泛、最经济的一种,可以称为金钢砂或耐火砂 碳化硅百度百科
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中国碳化硅产业链全景图,附30家企业汇总 知乎
碳化硅行业企业的业态主要可以分为两种商业模式:类是覆盖较全的产业链环节,同时从事碳化硅衬底、外延及器件的制作,例如科锐公司等;第二类是只从事产业链的单个或者部分环节,例如IIVI公司等。 国内碳化硅产业起步较晚。 衬底方面,科锐和II 2022年12月25日 以日本碳化硅学术界元老京都大学名誉教授松波弘之、关西学院大学知名教授大谷昇、京都大学实力派教授木本恒畅和企业实力代表罗姆株式会社的中村孝先生为各技术领域的牵头,集日本半导体全产业链的产学研各界中的骨干代表,在各自的研究领域结合各 日本碳化硅学术界骨干牵头撰写《碳化硅半导体技术 碳化硅(SiC)是目前发展最成熟的宽禁带半导体材料,世界各国对SiC的研究非常重视,纷纷投入大量的人力物力积极发展,美国、欧洲、日本等不仅从国家层面上制定了相应的研究规划,而且一些国际电子业巨头也都投 碳化硅为什么是第三代半导体最重要的材料? 知乎专栏
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碳化硅设备行业深度报告:多技术并行,衬底切片
2023年4月26日 1)碳化硅切割设备方面:国内首款高线速碳化硅金刚线切片机 gcscdw6500可获得和砂浆切割相同的晶片质量,同时大幅提升切割效率, 显著降低生产成本,行业内独家实现批量销售,实现国产替代,同时公 碳化硅器件更高效节能、更能实现系统小型化。根据罗姆官网数据,相同规格下 SiC 器 件体积约为硅基器件的 1/10。 2.纵观产业链,衬底与外延占据 70%的成本 碳化硅产业链主要分为衬底、外延、器件和应用四大环节,衬底与外延占据 70%的碳 化硅器件成本。碳化硅行业专题分析:国内衬底厂商加速布局 腾讯网碳化硅产业链深度解析(全网最全独家)#今日话题# #碳化硅# #快充# 开篇明义:近期固态电池产业链是快速暴涨迎来了大家关注,但是大家也不能错过其他优质产业链,今天更新一下碳化硅产业链的最新进展,希望大家有所补充和讨论。 下文讲解的重点和顺序包括: 上游产 碳化硅产业链深度解析(全网最全独家) 碳化硅产业
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小议碳化硅的国产化 知乎
在碳化硅器件的技术水平上,国内企业相对集中于基础二极管及中低压器件等低端领域,在对器件性能、可靠性要求较高的高端产品市场渗透率相对较低。 高压器件方面的国产化,最近也开始出现一些好消息。 比如: 泰科天润的碳化硅肖特基二极管、碳化硅 2022年8月17日 31、碳化硅产业链环环紧扣,核心环节高度垄断 以衬底和外延为核心,碳化硅产业链路径明晰。碳化硅产业链主要分为衬底、外 延、器件和应用四大环节,衬底材料是产业链的基础,外延材料是器件制造的关 键,器件是产业链的核心,应用是产业发展的动 碳化硅行业研究报告:多应用驱动供给缺口巨大 2022年3月22日 2020 年 8 月 17,公司碳化硅衬底产业化基地建设项目正式开工,总投资约 95 亿元 人民币,总建筑面积 55 万平方米,将新建一条 400 台/套碳化硅单晶 碳化硅衬底设备行业深度报告:新能源需求兴起
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碳化硅 SiC ~ 技术革新 知乎
2023年1月2日 2018 年,英飞凌收购了碳化硅晶圆切割领域的新锐公司 Siltectra,进入上游衬底领域。 Siltectra 拥有半导体材料新切割技术——冷切(COLD SPLIT),该技术能将 SiC 衬底的良率提高 90%,在相同碳化硅晶锭的情况下,它可以提供 3 倍 的材料,可生产更多的器件,最终 2022年2月18日 从行业整体规模体量来看,2021年底全球碳化硅功率半导体市场规模约9亿美元,其中中国市场约4亿美元,预计到到2024年全球市场规模将增长至20亿美元,其中汽车领域是其较大的下游应用市场。 从市场需求层面来看,相对于新能源汽车的快速发展,当前 项目遍布全国!?全球碳化硅芯片产能和竞争格局 1、半导体和碳化硅长晶炉领先者,绑定头部客户实现快速发展 11、深耕半导体和碳化硅单晶炉,绑定沪硅率先突破大硅片单晶炉 公司是国内从事半导体级和碳化硅晶体生长设备制造和销售的领先企业,率先突破 12 寸半导 晶升股份研究报告:碳化硅和半导体级单晶炉领先者
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碳化硅衬底市场群雄逐鹿 碳化硅衬底制备环节流程
2023年3月28日 碳化硅衬底制备环节主要包括原料合成、碳化硅晶体生长、晶锭加工、晶棒切割、 切割片研磨、研磨片抛光、抛光片清洗等环节 , 其中制备重难点主要是晶体生长和切割研磨抛光环节,是整个衬底生产环节 除此之外,碳化硅基功率器件在开关频率、散热能力、损耗等指标上也远好于硅基器件。碳化硅材料具有更高的饱和电子迁移速度、更高的热导率、更低的导通阻抗。 1、阻抗更低,可以缩小产品体积,提高转换效率;2、 第三代半导体之碳化硅:中国半导体的黄金时代 知乎2021年碳化硅功率器件市场市占率分布情况 (来源:Yole,01芯闻整理) 意法半导体 STMicroelectronics 根据意法半导体在近期财报中透露的最新数据,截止2022财年第1季度,公司碳化硅产品已经在75个客户的98个项目中送样测试,其中工业应用和电动汽车应用各占一半。同时意法宣布在这个季度获得了多个 英雄的黎明,碳化硅五巨头的野望 知乎
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碳化硅(SiC)火爆!上半年SiC车型销量超120万辆—车规AEC
2023年8月8日 车规级碳化硅 (SIC)模块要做哪些测试验证? AEC—Q101是基于失效机理的离散半导体元件应力测试鉴定,由AEC委员会制定,于1996年发行,并持续更新到2021年的E版本,也是目前沿用的最新标准。 适用于车用离散半导体元件的综合可靠性测试认证标 2023年1月2日 单晶生长环境要求高:单晶生长对温度和压力的要求苛刻,一般而言,碳化硅气相生长温度在 2000℃ ~2500℃之间,而传统硅材仅需 1600℃左右,碳化硅单晶对设备和工艺控制带来了极高的要求,温度和压力控制稍有失误,就会导致产品生长失败; 晶型要 碳化硅 SiC 知乎[摘 要]第三代半导体材料碳化硅(SiC)因其禁带宽度大、 热稳定性强、 热导率高、 抗辐射能力强等优点, 以耐高温、 高压、 高频著称, 在功率半导体领域有着广泛的应用前景而成为半导体材料的技术研究前沿和产业竞争焦点。本文详细论述了第三代半导体材料碳化硅(SiC)的生产方法、 研究进展和 第三代半导体材料碳化硅(SiC)研究进展 知乎
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PVT法碳化硅SIC晶体生长工艺中真空压力控制装置的
图1 PVT法碳化硅单晶生长过程中压力、温度和气体的随时间变化过程 从图1所示的工艺曲线可以看出,晶体生长炉内的压力控制是一个全真空度范围的精密变化过程,整个真空度变化范围横跨低真空和高真空(104Pa~105Pa),特别是在101Pa~105Pa的低真空范围内需要精 2021年11月12日 衬底,是碳化硅在半导体中存在的主要形式。衬底制备,首先将碳化硅粉料在单晶炉中高温升华之后形成碳化硅晶锭,然后对晶锭进行粗加工、切割、研磨、抛光得到碳化硅晶片,也就是衬底。衬底制备是碳化硅功率器件成本较大的部分,约占40%以上。彻底弄懂碳化硅产业及重点企业 知乎